د پروسس ځانګړي ګاز چې د TFT-LCD تولید پروسې CVD ذخیره کولو پروسې کې کارول کیږي: سلین (S1H4)، امونیا (NH3)، فاسفورن (pH3)، خندا (N2O)، NF3، او داسې نور، او د پروسې سربیره لوړ پاکوالی هایدروجن او لوړ پاکوالی نایتروجن او نور لوی ګازونه.ارګون ګاز د تودوخې په پروسه کې کارول کیږي، او د سپټرینګ فلم ګاز د تودوخې اصلي مواد دي.لومړی، فلم جوړونکي ګاز نشي کولی د هدف سره کیمیاوي تعامل وکړي، او ترټولو مناسب ګاز یو غیر فعال ګاز دی.د اینچنګ په پروسه کې به یو لوی مقدار ځانګړي ګاز هم وکارول شي ، او بریښنایی ځانګړي ګاز اکثره د اور وړ او چاودیدونکي ، او خورا زهرجن ګاز دی ، نو د ګاز لارې لپاره اړتیاوې لوړې دي.ووفلای ټیکنالوژي د خورا لوړ پاکوالي ټرانسپورټ سیسټمونو ډیزاین او نصبولو کې تخصص لري.
ځانګړي ګازونه په عمده توګه د LCD صنعت کې د فلم جوړولو او وچولو پروسو لپاره کارول کیږي.د مایع کرسټال ښودنه د ډلبندۍ پراخه ډول لري، چیرې چې TFT-LCD ګړندی دی، د انځور کولو کیفیت لوړ دی، او لګښت یې په تدریجي ډول کم شوی، او دا مهال ترټولو پراخه کارول شوې LCD ټیکنالوژي کارول کیږي.د TFT-LCD پینل د تولید پروسه په دریو لویو مرحلو ویشل کیدی شي: مخکینۍ صف، د متوسط مستقیم باکسینګ پروسه (CELL)، او د مرحلې څخه وروسته د ماډل اسمبلۍ پروسه.بریښنایی ځانګړي ګاز په عمده ډول د تیر سري پروسې د فلم جوړولو او وچولو مرحله کې پلي کیږي ، او د SiNX غیر فلزي فلم او په ترتیب سره یوه دروازه ، سرچینه ، ډرین او ITO زیرمه کیږي ، او فلزي فلم لکه دروازه ، سرچینه، drainandITO.
نايتروجن / اکسیجن / ارګون سټینلیس سټیل 316 نیمه اتوماتیک بدلون د ګاز کنټرول پینل
د پوسټ وخت: جنوري-13-2022